Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра. Наталья Макушина и др.
- Тип: Текст PDF
- Авторы:
- Издательство: МГТУ им. Н.Э. Баумана(2016)
- Год написания: 2006
- ISBN: 5-7038-2926-7
- Страниц: 51
- Язык: Русский
118 руб.
Отложить
- Жанры: Учебники и пособия для вузов, Электроника, Приборостроение, Техническая литература
- Теги:
- Описание
- Фрагмент
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
